精密洗浄・研磨技術開発

研究開発の概要

半導体、液晶パネル、太陽電池分野をはじめ、宇宙産業・原子力産業・先端研究設備等に必要とされる、超高清浄度・超高純度化を実現するための研究開発を行っています。特に、精密洗浄と研磨をキーワードに研究開発を推進しています。


研究内容

1精密洗浄技術の研究

  • 付着物のみを選択的に除去する手法の開発を行っています。
  • 対象材の化学的及び物理的特性を調査し、素材を傷める事なく最適な洗浄ができる方法を確立します。
  • より高い清浄度を達成するため、新規洗浄法の開発に取り組んでいます。
  • 各種分析装置を用い、洗浄後の清浄度を評価しています。

2研磨技術の研究

  • 各種材料や形状に合わせた研磨処理方法の開発を行っています。
  • 研磨処理と精密洗浄を組み合わせたクリーンな表面技術開発を行っています。

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